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高分子(zi)脫(tuo)硝工藝系統介紹
PNCR高活性(xing)固體氨基還原劑(ji)(ji)煙氣脫(tuo)硝技術是利(li)用一種高分子活性(xing)物質作為脫(tuo)硝還原劑(ji)(ji)，該高分子還原劑(ji)(ji)是高度富集和負載了含氨基團的共(gong)聚復合材(cai)料，其(qi)包含功能高分子還原材(cai)料、乳化劑(ji)(ji)、分散劑(ji)(ji)、緩釋劑(ji)(ji)和滲透劑(ji)(ji)，以及一些金(jin)屬元(yuan)素(su)和稀土元(yuan)素(su)等。
該(gai)技術不使用(yong)催化(hua)劑，是以高反(fan)(fan)應(ying)活性的(de)固體(ti)氨基還(huan)(huan)原(yuan)劑（NR3）為原(yuan)料(liao)，在600-950℃范圍內能迅速與NOx發生還(huan)(huan)原(yuan)反(fan)(fan)應(ying)而達(da)到脫硝目的(de)。其中佳反(fan)(fan)應(ying)溫度為850～950℃。
反應方程式如下：
工藝流程示意圖
PNCR高分子脫硝工藝既具有SCR脫硝率高(gao)的優(you)點，又具有SNCR投資和運(yun)行費用(yong)低的優(you)勢(shi)。
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