
高分(fen)子(zi)脫硝(xiao)工藝系統介紹
PNCR高活性固體氨(an)基還原劑煙(yan)氣(qi)脫(tuo)硝技術(shu)是(shi)(shi)利(li)用一種高分(fen)子活性物質作(zuo)為(wei)脫(tuo)硝還原劑,該(gai)高分(fen)子還原劑是(shi)(shi)高度富集和負載了含(han)氨(an)基團的共(gong)聚復(fu)合材料,其包含(han)功能高分(fen)子還原材料、乳化劑、分(fen)散(san)劑、緩釋(shi)劑和滲透(tou)劑,以及(ji)一些金屬(shu)元(yuan)素和稀土元(yuan)素等。
該技術不(bu)使用催化劑,是以高反應(ying)活性(xing)的(de)固(gu)體氨基還原劑(NR3)為原料,在(zai)600-950℃范圍內能迅速與(yu)NOx發生還原反應(ying)而達到脫硝目的(de)。其中佳反應(ying)溫度(du)為850~950℃。
反應方程式如下:
工藝流程示意圖
PNCR高分子脫硝工藝既具有SCR脫硝率(lv)高的(de)優點(dian),又具有SNCR投(tou)資和(he)運行(xing)費用(yong)低的(de)優勢。
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