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日照高分子脫硝(PNCR)

2021-01-20 09:03:43
日照高分子脫硝(PNCR)
詳(xiang)細介紹(shao):

高(gao)分子脫硝工藝系(xi)統介紹

PNCR高(gao)(gao)活性固體氨基還原劑煙氣脫(tuo)(tuo)硝技術是利用一種高(gao)(gao)分子活性物質作為脫(tuo)(tuo)硝還原劑,該高(gao)(gao)分子還原劑是高(gao)(gao)度富集和負載了含氨基團的共聚復合材(cai)料,其(qi)包含功能高(gao)(gao)分子還原材(cai)料、乳(ru)化劑、分散劑、緩釋劑和滲透劑,以及一些金屬(shu)元素和稀土元素等。

該技術不使(shi)用催化(hua)劑,是以高反(fan)應活性的固體氨基還原(yuan)劑(NR3)為原(yuan)料,在600-950℃范(fan)圍內(nei)能(neng)迅速與NOx發生還原(yuan)反(fan)應而達到脫硝目的。其(qi)中佳反(fan)應溫度(du)為850~950℃。

反應方程式如下:

高分子脫硝(PNCR)

工藝流程示意圖

PNCR高分子脫硝工藝既具有SCR脫硝率(lv)高(gao)的優點,又具(ju)有SNCR投資(zi)和運行費用(yong)低的優勢。



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