高分子(zi)脫(tuo)硝工藝系統介紹

PNCR高活(huo)性固體氨基還原劑(ji)煙(yan)氣脫(tuo)(tuo)硝(xiao)技術是(shi)(shi)利(li)用一(yi)種高分(fen)子(zi)活(huo)性物質(zhi)作為脫(tuo)(tuo)硝(xiao)還原劑(ji)，該高分(fen)子(zi)還原劑(ji)是(shi)(shi)高度富集(ji)和負載了(le)含氨基團的(de)共聚復合(he)材料，其包含功能高分(fen)子(zi)還原材料、乳(ru)化劑(ji)、分(fen)散劑(ji)、緩(huan)釋(shi)劑(ji)和滲(shen)透劑(ji)，以及一(yi)些金屬(shu)元素(su)和稀土元素(su)等。

該技術不使(shi)用催化劑，是(shi)以高(gao)反(fan)應活性的(de)固體(ti)氨基(ji)還原劑（NR3）為原料，在600-950℃范圍內(nei)能迅速與NOx發生還原反(fan)應而達到脫硝目(mu)的(de)。其中佳反(fan)應溫度為850～950℃。

反應方程式如下：

工藝流程示意圖

PNCR高分子脫硝工藝既具有SCR脫硝率高的優點，又具有(you)SNCR投資和(he)運(yun)行(xing)費用低的優勢。