中高溫SCR脫硝技術

中高(gao)溫(wen)SCR脫(tuo)(tuo)硝(xiao)技(ji)(ji)(ji)術主要是(shi)在催化(hua)劑(ji)的(de)(de)作(zuo)(zuo)用(yong)下，以NH3作(zuo)(zuo)為還(huan)(huan)原劑(ji)，有選擇性(xing)的(de)(de)與(yu)煙氣(qi)中的(de)(de)NOx反應并(bing)生(sheng)成無毒無污染的(de)(de)N2和(he)H2O。還(huan)(huan)原劑(ji)還(huan)(huan)可以是(shi)碳氫化(hua)合物(wu)（如甲烷、丙烷等(deng)）、氨、尿素等(deng)。該技(ji)(ji)(ji)術適(shi)用(yong)于(yu)(yu)煙氣(qi)溫(wen)度(du)在280℃-420℃之間(jian)，且脫(tuo)(tuo)除效(xiao)率高(gao)。目前中溫(wen)SCR脫(tuo)(tuo)硝(xiao)技(ji)(ji)(ji)術在大型煤粉鍋(guo)爐(lu)及流化(hua)床鍋(guo)爐(lu)已經廣泛采用(yong)，具有脫(tuo)(tuo)硝(xiao)效(xiao)率高(gao)、穩定性(xing)強及操(cao)作(zuo)(zuo)簡單(dan)等(deng)優點。對(dui)于(yu)(yu)工業(ye)窯爐(lu)而言，為實(shi)現超低排放，該技(ji)(ji)(ji)術時切實(shi)可行的(de)(de)技(ji)(ji)(ji)術之一(yi)。

中高溫SCR脫硝(xiao)技術流程圖

SCR低溫補償(chang)脫硝技術(shu)

采(cai)用“脫硫除塵出口煙(yan)(yan)氣(qi)+GGH換熱+熱風(feng)爐煙(yan)(yan)氣(qi)升溫(wen)+低溫(wen)SCR脫硝裝置+ GGH換熱+脫硝引風(feng)機+煙(yan)(yan)囪”。

具體工(gong)藝描(miao)述如(ru)下(xia)： 經(jing)過除(chu)塵脫(tuo)(tuo)硫后的(de)(de)煙(yan)(yan)(yan)氣(qi)，煙(yan)(yan)(yan)氣(qi)溫度(du)約為(wei) 50-150℃，煙(yan)(yan)(yan)氣(qi)經(jing)過 GGH 換(huan)熱(re)器換(huan)熱(re)后，溫度(du)達到(dao) 80~180℃，之后煙(yan)(yan)(yan)氣(qi)再與熱(re)風爐系(xi)統出口 800℃左右(you)的(de)(de)高溫煙(yan)(yan)(yan)氣(qi)混(hun)合成 180~200℃的(de)(de)混(hun)合煙(yan)(yan)(yan)氣(qi)，混(hun)合煙(yan)(yan)(yan)氣(qi)經(jing)過脫(tuo)(tuo)硝(xiao)反(fan)應器后完(wan)成脫(tuo)(tuo)硝(xiao)反(fan)應。脫(tuo)(tuo)硝(xiao)系(xi)統后溫度(du)為(wei) 180~200℃左右(you)的(de)(de)煙(yan)(yan)(yan)氣(qi)再進入前端(duan) GGH 換(huan)熱(re)器換(huan)熱(re)至 80~100℃左右(you)后，經(jing)系(xi)統脫(tuo)(tuo)硝(xiao)引(yin)風機由煙(yan)(yan)(yan)囪排放(fang)至大氣(qi)。 

主要技(ji)術要求(qiu)： 

（1）采用業(ye)界(jie)成熟(shu)穩定(ding)、實用可靠的技術工藝，技術裝(zhuang)備水(shui)平達到世界(jie)一流水(shui)平； 

（2）系統(tong)控制要求：系統(tong)的(de)電控設施由乙方成套供貨。控制要求為：手(shou)動和自動； ;

在“自動”模(mo)式下，可實現(xian)無(wu)人操作(zuo)模(mo)式； 

（3）能源介(jie)質(zhi)采用取(qu)能制，即甲(jia)方提供取(qu)能位置，乙方根據甲(jia)方要求負責施工對(dui)接(jie)； 

（4）以滿足煙氣(qi)排放達標為原則，兼顧(gu)考(kao)慮環(huan)保(bao)、安(an)全等(deng)規范要求，并結合(he)場(chang)地條件及外部運輸等(deng)因素進(jin)行總平面布置，并做到(dao)廠(chang)容優(you)美，建筑美觀； 

（5）在現有(you)場(chang)地條件下，優先滿足工藝生產設施(shi)的布置，再考慮其它輔助(zhu)設施(shi)； 

（6）儀控設(she)備(bei)數據能上傳(chuan)至主控室。